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다우코닝® CVD precursor는 PECVD 시스템을 사용하여 박막 절연체를 형성시키는 데 사용하는 다목적•고성능 소재이며, 구리의
듀얼 다마신 및 알루미늄 연결 공정에 사용할 수 있습니다. 또한, 무색, 비부식성, 비발화성의 유기실리콘 소재로서, 반도체 산업 안전 및 순도
규정에 따른 제품입니다.
다우코닝은 Air Products 와 전략적으로 제휴하여, Z3MS, Z4MS, ZTOMCATS, Z2DM 제품을
제공하고 있습니다.
| 종류: Multifunctional CVD Precursor |
| 물리적인 형태: Silicon Source Specialty Gas |
| 특성: High purity; Semiconductor grade |
| 잠정적인 사용 Formation of silicon carbide, silicon oxycarbide, silicon dioxide, or
silicon nitride thin film dielectrics. Typical film applications include:
copper diffusion barrier, etch stop, hard mask, low-k IMD, gap fill, and
passivation. |
| Technical Data | Download Data Sheet PDF | Download Product Brochure |
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| 종류: Multifunctional CVD Precursor |
| 물리적인 형태: Silicon Source Specialty Liquid |
| 특성: High purity; Semiconductor grade |
| 잠정적인 사용 Formation of silicon carbide, silicon oxycarbide, or silicon nitride thin
film dielectrics. Typical film applications include: copper diffusion
barrier, etch stop, hard mask, interlevel dielectric, and passivation. |
| Technical Data | Download Data Sheet PDF | |
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| 종류: Multifunctional CVD Precursor |
| 물리적인 형태: Silicon Source Specialty Liquid |
| 특성: High purity; semiconductor grade |
| 잠정적인 사용 Formation of silicon oxycarbide, and silicon dioxide thin film dielectrics.
Typical film applications include: interlevel dielectric. |
| Technical Data | Download Data Sheet PDF | |
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| 종류: Multifunctional CVD Precursor |
| 물리적인 형태: Silicon Source Specialty Liquid |
| 특성: High purity; semiconductor grade |
| 잠정적인 사용 Formation of silicon oxycarbide thin film dielectrics. Typical film
applications include: interlevel dielectric. |
| Technical Data | Download Data Sheet PDF | |
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